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离子源:氩离子 最大研磨角:±10°,每支离子枪可独立调节 离子束能量:0.1- 8.0 KeV 转速:1- 6rpm 真空度:5×10-6 Torr

120 - 240
当前销售数量:0
数量: 库存 7992
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PIPS II采用聚焦离子束对样品进行减薄,用于制备透射电镜试样。适用性广泛,可对金属、陶瓷、薄膜、复合材料、颗粒等各种材料进行减薄处理。

PIPS II通过离子枪激发获得离子束,以一定入射角度对样品进行轰击,去除样品表面原子,实现对样品减薄的效果。该仪器主要用于金属、陶瓷、薄膜、复合材料、颗粒等各种材料透射电镜样品的减薄。配备的液氮冷台可消除热效应产生的样品损伤,满足温度敏感性样品减薄的需求;其低能量离子枪最低能量仅0.1KeV,适合能量敏感性样品;WhisperLok?功能可对样品进行定位,提高减薄区域的精度控制;CCD数码变焦显微镜系统可以实时监测、采集并存储图像,精准控制减薄过程。 特性:低能聚焦双离子枪减薄、CCD实时观察、触摸屏控制、液氮冷台

样品直径:3mm 样品在进行离子减薄前应用凹坑仪预减薄至40μm以下。(本中心提供凹坑服务,另行收费)。